Florian WernerAtomic layer deposition of aluminum oxide on crystalline siliconFundamental interface properties and application to solar cells | |||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
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ISBN: | 978-3-8440-3039-6 | ||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
Series: | Physik | ||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
Keywords: | aluminum oxide; Al2O3; ALD; surface passivation; inversion layer; silicon; solar cell; photovoltaics; recombination | ||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
Type of publication: | Thesis | ||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
Language: | English | ||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
Pages: | 202 pages | ||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
Figures: | 59 figures | ||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
Weight: | 299 g | ||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
Format: | 21 x 14,8 cm | ||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
Binding: | Paperback | ||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
Price: | 48,80 € / 61,00 SFr | ||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
Published: | September 2014 | ||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
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Abstract: | In the present dissertation, Florian Werner investigates the application of atomic layer deposition (ALD) of amorphous aluminum oxide (Al₂O₃) dielectric layers to silicon solar cells. Highlights of his thesis include:
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Author profile | Florian Werner studied physics at the Georg-August-Universität Göttingen, where he graduated in the field of nanowire growth and characterization. He then joined the Institute for Solar Energy Research Hamelin (ISFH) for his doctoral studies on silicon photovoltaics. |