• Home
  • About us
  • Your Publication
  • Catalogue
  • Newsletter
  • Help
  • Account
  • Contact / Imprint
Thesis - Publication series - Conference proceedings - Reference book - Lecture notes/Textbook - Journal - CD-/DVD-ROM - Online publication - Open Access
Newsletter for authors and editors - New publications service - Archive
View basket
Catalogue : Details

Alexander Sasinska

Atomlagenabscheidung und Modifikation metallischer Cobalt-, Nickel- und Kupferschichten sowie Titandioxidschichten

FrontBack
 
ISBN:978-3-8440-5534-4
Series:Chemie
Keywords:ALD; Atomlagenabscheidung; Dünnschichtmaterialien; Oberflächenchemie; Precursorchemie; Precursor; Metallische Dünnschichten; Funktionale Oxidschichten; Photoelektrochemische Wasserspaltung; Plasma; XPS
Type of publication:Thesis
Language:German
Pages:200 pages
Figures:97 figures
Weight:267 g
Format:21 x 14,8 cm
Binding:Paperback
Price:48,80 € / 61,10 SFr
Published:November 2017
Buy:
  » plus shipping costs
Download:

Available PDF-Files for this title:

You need the Adobe Reader, to open the files. Here you get help and information, for the download.

These files are not printable.

 
 DocumentDocument 
 TypePDF 
 Costs36,60 EUR 
 ActionPurchase in obligation and display of file - 3,7 MB (3838434 Byte) 
 ActionPurchase in obligation and download of file - 3,7 MB (3838434 Byte) 
     
 
 DocumentTable of contents 
 TypePDF 
 Costsfree 
 ActionDisplay of file - 169 kB (173243 Byte) 
 ActionDownload of file - 169 kB (173243 Byte) 
     

User settings for registered users

You can change your address here or download your paid documents again.

User:  Not logged in.
Actions:  Login / Register
 Forgotten your password?
Recommendation:You want to recommend this title?
Review copy:Here you can order a review copy.
Link:You want to link this page? Click here.
Export citations:
Text
BibTex
RIS
Abstract:Die Atomlagenabscheidung gewinnt seit Beginn des neuen Jahrtausends sowohl in industrieller, als auch in akademischer Hinsicht zunehmend an Bedeutung. Die Möglichkeit, ultradünne Schichten nach einem kontrollierten Mechanismus auf eine Vielzahl von Substraten aufzubringen ist nicht nur allein für die Halbleiter-Industrie von immenser Bedeutung. Das Anwendungspotenzial reicht über biotechnologische und sensorische Anwendungen, wie Diffusionssperrschichten oder Gassensoren bis hin zur Erforschung von Solarzellen und Photohalbleitern für die nachhaltige Energiegewinnung.

Der erste Teil dieser Dissertation behandelt die Entwicklung neuer, luftstabiler Precursoren für die plasmaunterstützte Atomlagenabscheidung metallischer Cobalt- und Nickelschichten unter Verwendung tridentater Enaminon-Liganden, sowie metallischer Kupferschichten durch den Einsatz bidentater Heteroarylalkenolat-Liganden. Ein speziell für das Zusammenspiel zwischen molekularer Stabilität und Reaktivität gegenüber funktionellen Gruppen der Substratoberfläche ausgelegtes Ligandenkonzept wird auf seine selbstlimitierenden Eigenschaften und damit auf seine Eignung als ALD-Precursor getestet.

Der zweite Teil dieser Dissertation beschäftigt sich mit der Herstellung von Titandioxid-Photoanodenmaterialien für die solare Wasserelektrolyse. Die gezielte Modifikation von ALD-Titandioxidschichten mittels Wasserstoff- und Stickstoffplasma ermöglicht die Analyse der individuellen Einflüsse von Sauerstoff-Fehlstellen und der Dotierelemente Wasserstoff und Stickstoff auf die photoelektrochemischen Eigenschaften des Matrixmaterials, sodass leistungsstarke Photoanodenmaterialien in hohem reproduzierbarem Maßstab hergestellt werden können.